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10月24日至26日，2025半导体材料与薄膜晶体管发展与创新应用大会暨专家研讨会在中国科学院宁波材料技术与工程研究所顺利召开。这场以“新变革·新材料·新应用”为主题的行业盛会，汇聚了全国半导体领域的权威学者、科研先锋、行业专家及企业，共同聚焦半导体材料科学的最新突破，深入探讨先进材料在薄膜晶体管及前沿领域的创新应用，为推动半导体产业高质量发展注入强劲动力。
本次会议由中国科学院宁波材料技术与工程研究所、浙江省真空学会、宁波市科学技术协会主办，镇海新材料小镇、宁波甬研社科技产业发展有限公司协办，精心搭建集思想碰撞、技术交流、合作洽谈于一体的高端学术平台。三天时间里，来自全国各地高校、科研院所及企业的参会者展开了深入研讨与热烈交流。
大会学术报告环节亮点纷呈，近40位行业专家学者带来了兼具深度与前瞻性的精彩分享。中国科学院宁波材料所曹鸿涛研究员探讨“金属诱导序构化氧化物TFT”，为器件性能优化提供新思路；湖南大学廖蕾教授以“氧化亚锡薄膜晶体管”为主题，深入剖析材料特性与器件性能优化路径，为氧化亚锡在半导体领域的应用拓展提供关键参考；甬江实验室万青研究员聚焦“大尺寸晶圆临时键合与精密减薄”，深入解析关键技术难点；还有北京大学韩德栋教授、复旦大学朱国栋教授等专家学者分享了前沿研究成果。
除了紧凑高效的学术报告，大会还特别设置“优秀墙报奖”评选环节，成为参会者展示半导体材料与薄膜晶体管领域前沿研究成果、深化学术互动的重要平台。评选环节紧密围绕大会主题，参评成果均为参会学者的最新科研结晶，既为优秀科研成果提供了高效展示窗口，也为不同研究背景的参会者搭建了技术交流桥梁。
作为半导体领域的重要盛会，本次大会不仅为行业搭建了高水平的学术交流平台，更推动了半导体材料与薄膜晶体管技术的创新发展。未来，随着更多前沿技术的落地应用，半导体产业将迎来更广阔的发展空间，而本次大会所凝聚的智慧与共识，也将为产业高质量发展持续赋能。
